Meddelanden som kan klassificeras som hatretorik utgör 1,8 procent av alla meddelanden.

Hatretorik i den offentliga debatten på webben förekommer främst på olika diskussionsforum. Det här framgår av rapporten ”Utnyttjande av artificiell intelligens vid uppföljning av hatretorik” som Justitieministeriet publicerat.

Enligt rapporten förekommer 97 procent av hatretoriken på diskussionsforum, de flesta på webbplatsen Ylilauta. Av alla de meddelanden som identifierades som hatretorik påträffades 2,5 procent på Twitter.

Med hatretorik avses kommunikation som i innehåll eller tonfall är förnedrande, förödmjukande, hotfull, fientlig, aggressiv eller omänsklig. Hatretorik kan riktas mot personliga egenskaper såsom en persons ålder, religion eller övertygelse eller mot en viss grupp av människor.

På de offentliga finskspråkiga plattformarna förekommer cirka 150 000 meddelanden per månad som kan klassificeras som hatretorik. Detta motsvarar 1,8 procent av alla meddelanden.

I materialet ingår inte icke-offentliga debatter, alltså slutna Facebookgrupper och privata konton.

Rapporten är gjord av textanalysföretaget Utopia Analytics. Justitieministeriet beställde rapporten som en del av projektet Fakta mot hat som beviljats finansiering av EU.

Det material som samlats in från de största diskussionsforumen och nyhetssidorna, bloggar och offentliga diskussioner på Twitter, Facebook och Instagram analyserades närmare med hjälp av artificiell intelligens.

Av materialet klassificerades 62 procent som hatretorik som stämplar eller generaliserar en människogrupp, 32 procent som förolämpning eller annan form av hatretorik, 4 procent som hatretorik som hänför sig till personliga egenskaper och 2 procent som hatretorik som riktar sig till en yrkesgrupp.

Materialet består av cirka 12 miljoner finskspråkiga kommentarer och skriverier på offentliga webbplatser under september–oktober 2020.

För rapporten samlade man också in material manuellt från webbplatserna Ylilauta och Hommaforum, till vilka sökrobotar har förhindrats tillträde.